測量投影儀檢定規範於2011年11月14日頒布，2012年2月14日實施。我國計量技術規範。

本規範适用於直角坐标系中的圖像測量儀器。引用瞭幾何測量設備校準和圖像測量儀器驗收監測和複檢監測中的不確定度評估指南。

需要熟悉涉及的更重要的參(cān)數(shù)。

1、測(cè)量投影儀在平面上的尺寸測(cè)量誤差（Exy）：測(cè)量誤差表示将産(chǎn)品或樣品以任意方向放置在圖像測(cè)量平面上，測(cè)量二維尺寸的示值誤差。

2、測(cè)量投影儀在Z軸上的尺寸測(cè)量誤差（Ez）：測(cè)量誤差表示在垂直於(yú)圖像測(cè)量平面的單軸方向上測(cè)量的示值誤差。

3、測(cè)量投影儀測(cè)量頭尺寸測(cè)量誤差（Ev）：在不移動平台的情況下，圖像視場(chǎng)内任意尺寸平面的測(cè)量誤差。

4、測(cè)量投影儀測(cè)量的各截面測(cè)量結果的一緻性（Ec）：影像測(cè)量儀在光軸的不同截面上測(cè)量時，各截面坐标原點(diǎn)與XY的投影的一緻性平面可以理解爲圖像測(cè)量儀沿Z方向上下移動時，Z軸與XY水平面的垂直度也可以反映測(cè)量頭在不同高度的圖像測(cè)量特性的一緻性。

5、測(cè)量投影儀二維檢(jiǎn)測(cè)誤差（P2D）：使用影像測(cè)量儀測(cè)量标準圓的半徑。

6、測(cè)量投影儀探頭的檢測(cè)誤差（PV）：使用影像測(cè)量儀測(cè)量視場(chǎng)内标準圓的半徑。

7、測(cè)量投影儀的變(biàn)倍檢測(cè)誤差（Pz）：使用影像測(cè)量儀測(cè)量标準圓心坐标在不同倍率下的變(biàn)化範圍。

近年來，光學影像測量儀器廣泛應用於(yú)制造業，與人們的生活息息相關。行業也呈現出快速擴張的趨勢。我國的發光圖像測量儀器行業市場也在不斷加速並(bìng)購。生産的産品數量多，增長明顯；部分中低端産品産能過剩，而高端産品品種少、缺貨多，與國外産品性能差距較大。